無機汚染物質を測定する 20 以上のメソッド
Agilent ICP-QQQ 半導体業界アプリケーション集の最新版には、以下のものに含まれる無機汚染物質の測定に最適化されメソッドが 20 種類以上掲載されています。
- ウエハ材料
- 超純水および過酸化水素
- プロセス薬品、酸、溶媒
- プリカーサおよびプロセスガス
メソッドには、機器の構成、チューニングパラメータ、サンプルおよび標準液の前処理の詳細、代表的な結果などが含まれており、次のような物質中の元素含有量の測定に使用できます。
- 受け入れバルクプロセスの化学物質および試薬
- 工場の UPW、ユースポイントおよびライン内の化学物質
- 洗浄槽（溶媒、ピラニア溶液、RCA SC-1/2、BOE、HF など）
- CMP スラリおよび高純度金属
- 作業場のモニタリングのための空気質 – 金属、有機金属、および粒子